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化學法除臭設備
詳細介紹
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污染物 |
污染物形式 |
初始濃度 |
吸收中和液 |
去除效率 |
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氯化氫HCL |
Gas |
≤500mg/m3 |
NaOH溶液 |
95～99% |
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氮氧化物NOx |
Gas |
≤1000mg/m3 |
NaOH溶液或特殊藥品 |
60～75% |
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硫酸H2SO4 |
Gas |
≤500mg/m3 |
NaOH溶液 |
90～98% |
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硫化氫H2S |
Gas |
≤500mg/m3 |
NaOH溶液 |
90～99% |
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溴Br2 |
Gas |
≤500mg/m3 |
NaOH溶液 |
90～99% |
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二氧化碳CO2 |
Gas |
≤500mg/m3 |
NaOH溶液 |
65～85% |
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氯CL2 |
Gas |
≤500mg/m3 |
NaOH溶液 |
90～99% |
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甲醛HCHO |
Gas或Liquid(3microns以上) |
≤1000mg/m3 |
NaOH溶液 |
90～99% |
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硫醇RSH |
Gas或Liquid(3microns以上) |
≤1000mg/m3 |
特殊藥品為酸霧溶液 |
90～99% |
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二氧化氯CLO2 |
Gas |
≤1000mg/m3 |
特殊藥品為酸霧溶液 |
90～99% |
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醋酸CH3COOH |
Gas或Liquid(3microns以上) |
≤1000mg/m3 |
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95～99% |
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丙酮CH3COCH3 |
Gas |
≤1000mg/m3 |
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95～99% |
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氫氧化鈉NaOH |
Liquid(3microns以上) |
≤1000mg/m3 |
H2SO4溶液 |
98～99% |
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乙醇CH3CH2OH |
Gas或Liquid(3microns以上) |
≤1000mg/m3 |
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95～99% |
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甲酸HCOOH |
Gas |
≤1000mg/m3 |
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90～99% |
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氫溴酸HBr |
Gas或Liquid(3microns以上 |
≤1000mg/m3 |
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90～99% |
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氫氟酸HF |
Gas |
≤1000mg/m3 |
NaOH溶液 |
95～98% |
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氰酸HCN |
Gas |
≤1000mg/m3 |
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65～99% |
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氨氣NH3 |
Gas |
≤1000mg/m3 |
H2SO4溶液 |
95～99% |
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